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紅外線氣體分析器的樣品處理系統(tǒng)承擔著除塵、除水和溫度、壓力、流量調(diào)節(jié)等任務(wù), 處理后應(yīng)使樣品滿足儀器長期穩(wěn)定運行要求。除應(yīng)保證送入分析儀的樣品溫度、壓力、流量恒定和無塵外,特別應(yīng)注意的是樣品的除水問題。
當樣氣含水量較大時,主要危害有以下幾點:
① 樣氣中存在的水分會吸收紅外輻射,從而給測量造成干擾;
② 當水分冷凝在晶片上時,會產(chǎn)生較大的測量誤差;
③ 水分存在會增強樣氣中腐蝕性組分的腐蝕作用;
④ 樣氣除水后可能造成樣氣的組成發(fā)生變化。
這一條需要注意:高含水的氣樣溫度降至室溫,過飽和的水析出后,各組分的濃度均會發(fā)生變化。若氣樣 中有一些易溶于水的組分,這些組分被水部分溶解,會使各組分的濃度變化更大。工藝要求檢測的濃度指標一般是不含水分的“干氣"中的含量,而經(jīng)預(yù)處理后的氣樣中 水分不可能除掉,仍將占有一定的比例。隨著預(yù)處理運行狀況的變化,環(huán)境溫度、壓力 的變化,氣樣中的水含量亦隨之變化。一些極性較強的組分如CO? 、SO? 、NO 等,隨著水溫、氣樣壓力及水氣接觸時間長短的不同而有不同的溶解度。
從上面的分析可以看出,經(jīng)過預(yù)處理后,氣樣的組成及各組分的濃度變化是十分復雜 的,由此造成的示值偏離對微量組分檢測尤為嚴重。但這種偏離并不都是附加誤差,其中一 部分往往反映了濃度變化的真實情況,對此應(yīng)通過樣品組成分析及預(yù)處理運行條件測試等, 從系統(tǒng)誤差角度加以消除。而對預(yù)處理運行狀態(tài)變化引起的附加誤差則需創(chuàng)造條件,使之下降到合適示值。
為了降低樣氣含水的危害,在樣氣進入儀器之前,應(yīng)先通過冷卻器降溫除水(最好降至5℃以下),降低其露點,然后伴熱保溫,使其溫度升高至40℃左右,送入分析器進行分析, 由于紅外分析器恒溫在50~60℃下工作,遠高于樣氣的露點溫度,樣氣中的水分就不會冷 凝析出了。
注意不可采用水洗的辦法對高溫高含水樣品加以處理(例如采用水力抽氣器取樣,再經(jīng) 氣水分離器加以分離的辦法),因為水洗時樣氣中的易溶組分與水充分接觸,會加大其溶解度,洗滌水中的溶解氧也會析出,從而導致樣品組成的更大變化。